テクノロジー
当社の技術アプローチは、ヘテロ環化合物の部位選択的合成に重点を置いています。当社の研究開発チームは、50件を超える独自の特許と20年以上にわたるプロセス知識を活用し、従来の合成法の限界を克服することに成功しました。「不均一触媒-連続フロー反応」カップリング技術の革新的な応用により、重要中間体の合成における部位選択性が30%以上向上しました。製品の純度は99.5%以上を維持し、不純物制御精度はppmレベルに達し、医薬品や電子グレードなどのハイエンドアプリケーションの厳しい仕様要件を完全に満たしています。
